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活性炭除臭设备是等体积传统活性炭过滤设备过滤面积的2~4倍,阻力只有传统的1/2~1/3。环形活性炭净化装置由于采用切线出风,其方向不受场地条件限制可任意摆放,抽风机和设备对接极易,排放管可直接固定于设备上,系统整齐合理, 废气的产生部位比较多,并且分散在车间中,因此在处理废气之前必须先把废气收集起来,所以需要集气系统对其进行收集后统一进行处理, 在车间机器产生废气的具体部位加上密闭系统,然后安装相对应的管道,利用风机作用将废气抽出;另外,一方面在车间四周的地面部位安装一定量的鼓风机,将车间内散布的废气由下而上鼓气,另一方面在车间顶部安装抽风机,使抽气量大于鼓风量,从而车间内产生一定的低负压,保证了车间内废气不会像外扩散。抽出的废气统一由管道外送进行处理。



光氧废气处理设备气体分子被击穿,产生包括电子、各种离子、原子和自由基在内的混合体。放电过程中虽然电子温度很高,但重粒子温度很低,整个体系呈现低温状态,所以称为低温等离子体。低温等离子体降解污染物是利用这些高能电子、自由基等活性粒子和废气中的污染物作用,使污染物分子在极短的时间内发生分解,并发生后续的各种反应以达到降解污染物的目的。 光氧废气处理设备 特点:① 采用单级或多级串联洗涤,对污染物去除彻底,去除效率高。② 处理高浓度恶臭废气具有明显优势,运行稳定。③ 具有启动速度快、可间歇运行、耐冲击负荷强、受温度影响小、运行稳定等特点。④ 自动化程度高,占地面积小,化学洗涤除臭设备适用于污水处理厂、制药厂、化工厂等具有碱性或酸性且浓度比较高的尾气治理。活性炭除臭设备采取切线出风、环状过滤、中间进风、上不加料、下部卸料的结构,克服了传统的活性炭过滤器过滤阻力大、面积小、占地面积大、设备投资高、更换活性炭困难等缺陷,使活性炭过滤设备结构设计近乎于完美。


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OC废气处理设备从理论上讲,只要半导体吸收的光能不小于其带隙能,就足以激发产生电子和空穴,该半导体就有可能用作光催化剂,常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或硫化物,如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。这些催化剂各自对特定反应有突出优点,具体研究中可根据需要选用,如CdS半导体带隙能较小,跟太阳光谱中的近紫外光段有较好的匹配性能,可以很好地利用自然光能,但它容易发生光腐蚀,使用寿命有限。相对而言,Ti02的综合性能较好,是广泛使用和研究的单一化合物光催化剂。


工业废气处理设备。解吸出的VOCs气体经过冷凝器、气液分离器后以较纯的VOCs气体离开汽提塔,被回收利用。该工艺适合于VOCs浓度较高、温度较低的气体净化,其他情况下需要作相应的工艺调整。 在用多孔性固体物质处理流体混合物时,流体中的某一组分或某些组分可被吸表面并浓集其上,此现象称为吸附。吸附处理废气时,吸附的对象是气态污染物,气固吸附。被吸附的气体组分称为吸附质,多孔固体物质称为吸附剂。固体表面吸附了吸附质后,一部被吸附的吸附质可从吸附剂表面脱离,此现附。 工业废气处理设备 特点:① 不需要高成本的化学药剂,运行稳定,耐腐蚀,耐负荷冲击能力大。② 针对特定有害气体成份驯化适当的微生物,提高单位容积的负荷率。③ 填料采用有机无机混合填料,比表面积大,孔隙率高,并可为微生物提供营养,可支撑大量不同种群微生物群。④ 填料活性介质的损失小、可减少能耗,降低运行费用。采用强化自然生物降解污染物,无二次污染物产生。VOC去除率高,对H2S的去除率可达99%。 PLC控制系统自动运行,无需人员管理。








